上海天天彩: 愛萬提斯

鍍膜過程監控

上海天天彩 www.thdvs.com 發布時間:2019-08-02 08:21:15

在鍍膜過程中需要對一些重要參數進行監控,如膜層厚度、成分、表面光潔度、光透射率、反射系數、偏振特性等,都可以利用光譜學和雙光束干涉的方法進行測量。光纖的使用為監控過程提供了靈活的工具,可以使光方便地進入或導出遠方的真空超凈室,而且可以同時為膜層分析提供多個幾何量的測量選擇。膜層的照明和發光的探測可以在相對于膜層的不同光纖位置進行,可以測量鏡面反射、漫反射、傳輸、偏振、干涉、熒光和拉曼散射等??梢岳枚喔庀送奔嗖舛喔霾問?,或者在不同的空間位置或掩模條件下同時測量。

用幾個適宜結構的光纖探頭,就可以在線監測生產的全過程。在一些場合中,可以通過監測離子源(如等離子源)的光譜輻射來確定鍍膜過程中的條件效率。

對于大多數此類監測系統來說都需要專門的實驗布局,我們可以為您提供適合您應用的實驗布局,這里僅舉一個應用系統的例子。

      在這里使用一個反射型光纖探頭來在線監測鍍膜生產過程。光纖通過過真空裝置進入真空室,然后傳到反射探頭上。反射光經過另一個過真空裝置,進入光譜儀的一個測量通道。反射型探頭可以用SMA接頭拆下?;箍梢栽僭黽右桓齬餛滓峭ǖ?,用來進行參考測量或補償光源本身的波動對測量結果的影響。


光譜儀

AvaSpec-ULS2048(200-1100nm)

軟件

AvaSoft-Full軟件和XLS或PROC應用軟件

光源

AvaLight-DH-S-BAL均衡光譜型氘-鹵素燈

光纖探頭  

1根FCR-7UV200-2-ME反射型光纖探頭,1根FC-UV600-2光纖和1根FC-UV200-        2光纖

過真空裝置

FC-VFT-UV200和FC-VFT-UV600

{ganrao}